Intel Corp. a commencé à utiliser le tout dernier matériel de lithographie d'ASML Holding NV pour produire des processeurs.
Le fabricant néerlandais d’équipements de fabrication de puces a dévoilé cette étape importante aujourd’hui. L'annonce a coïncidé avec la publication de son rapport sur les résultats trimestriels, qui a dépassé les attentes dans tous les domaines.
Les machines de lithographie utilisent la lumière pour graver des transistors dans des tranches de silicium. ASML est le plus grand fournisseur mondial de tels systèmes. La société a annoncé aujourd'hui qu'Intel avait commencé à utiliser sa nouvelle génération de machines de lithographie, la série TwinScan EXE, pour fabriquer des puces.
Les capacités d'une machine de lithographie sont influencées par son ouverture numérique, ou NA. C'est un nombre utilisé pour décrire les angles sous lesquels un système génère des faisceaux lumineux. Plus le nombre NA est grand, plus les transistors que le système peut fabriquer sont petits. Les petits transistors, à leur tour, permettent de produire des puces plus rapides et plus économes en énergie.
Les machines EXE d'ASML ont un nombre NA 51 % plus élevé que leurs prédécesseurs. Cette architecture dite High NA EUV leur permet de graver des motifs de silicium avec une résolution de huit nanomètres. Avant la sortie de la série EXE, les opérateurs de fabrication ne pouvaient créer que des modèles de 13 nanomètres.
Intel a installé un système appelé EXE:5000 dans son usine de Hillsboro, dans l'Oregon, il y a deux ans. Il a ensuite mis en place une deuxième machine, plus performante, connue sous le nom d'EXE:5200B. Le fabricant de puces a terminé les tests d'acceptation de ce dernier système en décembre.
Les EXE:5000 et EXE:5200B produisent tous deux de la lumière laser en vaporisant de minuscules gouttes de plomb. Cependant, ce dernier système accomplit la tâche plus efficacement grâce à un ensemble de composants optiques améliorés. En conséquence, l'EXE:5200B peut traiter plus de tranches par heure et offre une précision de gravure plus élevée.
Les processeurs modernes comprennent des dizaines de couches réalisées avec différentes machines de lithographie. Selon ASML, Intel utilise la série EXE pour produire certaines des couches de son nouveau processus Intel 18A. Les entreprises ne sont pas entrées dans les détails. En règle générale, les opérateurs de fabrication utilisent leurs machines de lithographie haut de gamme pour réaliser les couches les plus complexes et produire le reste avec des équipements moins avancés.
Intel utilise sa ligne de production alimentée par EXE pour produire en masse un sous-ensemble de ses processeurs pour ordinateurs portables Intel Core Ultra Series 3. Les puces les plus avancées de la série sont livrées avec une unité centrale à 12 cœurs. De plus, ils comprennent une unité de traitement graphique à 12 cœurs et un accélérateur d’intelligence artificielle.
« En qualifiant l'option de processus EUV High NA sur certaines couches de produits Intel 18A, notre flotte d'outils existante offre aux clients un rendement accru, tandis que nous développons des options futures pour atteindre des performances, une densité et une flexibilité de fabrication de pointe sur les nœuds à venir », a déclaré Naga Chandrasekaran, vice-président exécutif et directeur général d'Intel Foundry.
ASML a annoncé cette étape lors de la publication de ses résultats du deuxième trimestre. L'entreprise a généré un chiffre d'affaires de 9,3 milliards d'euros au cours du trimestre clos le 28 juin, bien au-dessus des 8,8 milliards d'euros attendus par les analystes. Le bénéfice net d'ASML, à 2,9 milliards d'euros, a également dépassé l'estimation du consensus.
L'entreprise s'attend à ce que la forte demande pour ses machines se poursuive au second semestre. ASML a relevé sa prévision de chiffre d'affaires pour l'année entière entre 43 et 45 milliards d'euros, ce qui représente une augmentation de 5 milliards d'euros dans le haut de la fourchette. En outre, l'entreprise a annoncé son intention d'augmenter sa capacité de fabrication de 30 % au cours de chacune des deux prochaines années sur certaines de ses lignes de production.
